海諾威攜最新紫外線脫氯技術出席春季CIPM 2016

上海2016年5月20日電 /美通社/ -- 英國豪邁的紫外線水處理設備廠家 -- 海諾威攜中壓多譜段紫外線脫氯技術產品于2016年4月20-23日參加在重慶舉辦的第51屆（2016年春季）全國制藥機械暨中國國際制藥機械博覽會。中壓多譜段紫外線脫氯設備專門為制藥廠和工程公司度身定做。

海諾威在此次展會上針對制藥行業，重點推出中壓紫外線脫氯技術。傳統工藝中，水經過活性炭后，無余氯保護，非常容易滋生微生物；將中壓紫外線替代活性炭后，則可高效脫除余氯并徹底滅活原水微生物；有效避免后端RO/EDI系統微生物二次污染，極大降低其周期性消毒頻率。

海諾威此次的新產品可進行在線紫外線強度檢測，確保余氯去除效果，保障RO/EDI系統安全。同時，其運行和管理成本明顯優于傳統脫氯工藝，占地空間小，無需定期清洗和消毒，有效避免RO系統結垢問題。

海諾威在本屆CIPM 2016 春季展上吸引了大批來自制藥廠和工程公司的專業觀眾，甚至有專業觀眾現場簽訂訂購合同。海諾威的紫外線技術已經逐步得到中國制藥行業的進一步認可。